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0512-57792815利潔凈低硫低氯丁腈手套在半導體生產中的應用主要基于其
超低硫氯含量、高潔凈度、防靜電及化學兼容性,能夠滿足半導體制造對金屬污染、微??刂萍肮に嚟h(huán)境的嚴苛要求。以下是具體應用場景和優(yōu)勢:
1. 核心優(yōu)勢:低硫低氯的雙重潔凈保障
硫污染控制:硫元素可能與半導體中的金屬層(如鋁、銅互連)反應生成硫化物,導致電路短路或腐蝕。低硫設計可避免硫擴散污染。
氯污染控制:氯元素在高溫或潮濕環(huán)境下可能引發(fā)電化學腐蝕,尤其對氧化層(如SiO?)或敏感元件(如MOSFET)造成損害。低氯配方減少此類風險。
無鹵素殘留:符合半導體行業(yè)對鹵素(Cl、Br等)的限制要求(如IEC 61249-2-21),避免對精密器件的化學侵蝕。
2. 高潔凈度適配超凈環(huán)境
微粒與離子控制:通過無硅油、無脫模劑工藝,手套表面微粒(≥0.5μm)≤1000個/副,離子殘留(Na?、K?、Cl?等)≤100ppb,滿足ISO Class 1~3(百級至十級)無塵室標準。
低析出物:高溫制程(如擴散、氧化)中不釋放硫/氯化合物,防止晶圓表面污染或器件性能退化。
注:網站部分數(shù)據(jù)來源于鴻博斯特集團
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